盛元半导体申请半导体器件加工用清理装置专利，通过离心作用将废液中的杂质分离再循环使用

盛元半导体申请的这项专利技术，通过离心作用对半导体器件加工废液进行处理，具有以下特点和优势：
1. "提高资源利用率"：通过离心作用将废液中的杂质分离，可以实现对废液中可回收资源的有效利用，减少对环境的污染。
2. "降低生产成本"：通过循环使用处理后的废液，可以减少原材料的使用，降低生产成本。
3. "提高生产效率"：该技术能够快速、高效地处理废液，减少废液对生产线的污染，提高生产效率。
4. "环保节能"：该技术能够有效降低废液对环境的污染，符合国家环保政策，具有节能降耗的特点。
5. "技术先进性"：采用离心作用处理废液，相较于传统处理方法，具有更高的技术含量和先进性。
具体来说，这项专利技术可能包括以下步骤：
1. "废液收集"：将半导体器件加工过程中产生的废液收集起来。
2. "离心分离"：将废液通过离心机进行离心分离，将杂质与废液分离。
3. "杂质处理"：对分离出的杂质进行处理，如回收、处理或废弃。
4. "废液循环使用"：将处理后的废液循环使用，替代部分原材料。
5. "监测与优化"：对整个处理过程进行监测，根据实际情况对工艺进行优化。
总之，盛元半导体申请的这项专利技术具有

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金融界2025年6月20日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市盛元半导体有限公司申请一项名为“一种半导体器件加工用的清理装置”的专利，公开号CN120184053A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体器件加工用的清理装置，涉及半导体处理技术领域，包括机身和分离组件，所述机身下部设置有分离组件，所述分离组件包括转槽、齿环、驱动轮、驱动电机、分离筒、暂存筒、连通管、排屑孔、收集盘和排污管，所述机身下部设置有转槽，且转槽内设置有齿环，所述齿环一侧设置有驱动轮，且驱动轮一侧连接有驱动电机，所述齿环内侧连接有分离筒，且分离筒内侧连接有暂存筒，所述分离筒中部设置有连通管，且分离筒侧壁开设有排屑孔。

天眼查资料显示，深圳市盛元半导体有限公司，成立于2004年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1875.460851万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市盛元半导体有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目22次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息75条，此外企业还拥有行政许可22个。

本文源自金融界