这设备 30 年前问世至今仍在使用，助 ASML 登上半导体微影曝光龙头

不论是极紫外光微影曝光设备 (EUV) 或是深紫外光微影曝光设备 (DUV)，当前都被广泛用在逻辑晶片与记忆体生产上，可说是当前半导体製程中不可或缺的关键设备。而在这些设备的生产当中，荷兰商艾司摩尔 (ASML) 则在其中扮演了至关重要的角色。只是，当时落后竞争对手的 ASML，如何能成为今天半导体微影曝光设备上的霸主，其关键就在当年的 PAS 5500 机台上。

ASML 表示，1991 年 ASML 首部 PAS 5500 机台完成出货之后，直到今天，PAS 5500 仍是 ASML 最长青的微影设备，也是 ASML 用途最广泛的产品线之一。当时在 PAS 5500 出货之前，ASML在 半导体微影市场位居第三，遥遥落在竞争对首 Nikon 和 Canon 之后。然而， PAS 5500 的成功很快的让 ASML 晋升第二大微影设备商，并为 ASML 日后在微影市场的全球发展打下基础。

至于，为什么叫做 PAS 5500 呢？PAS 5500 来自 1970 年代，当时飞利浦的研究员开始实验一系列的设备，而 PAS 5500 的全名 "the Philips Automatic Stepper (PAS)"。而为了纪念这部机台的来源，也代表 ASML 与飞利浦长期的合作关係，因此取名为 PAS 5500。​

ASML 强调，问世的 30 年后，每部 PAS 5500 都在半导体製程中拥有自己的故事。举例来说，已经 25 岁的 PAS 5500/275，多年来被应用在记忆体 (Memory) 以及 RF 模组 (Radio Frequency Module) 製程中，但它最近刚被翻修，并重新贩售到 VR 技术製程的最前线，展开新生活。仅管 PAS 5500 已经不再被应用在最先进的製程中，但它们具备成本低、体积小、简单以及稳定性，在许多利基 (Niche) 应用市场中是首选设备。为了持续支援使用这部机台的客户，当前 ASML 已将相关的客户支援服务期限延后至 2030 年以后。

(首图来源：ASML)