全球半导体供给紧张,三星电子位于南韩平泽(Pyeongtaek)的第二工厂,最快会在今年 6 月上线,可望提供更多晶圆代工产能、并生产更多记忆体。
BusinessKorea 16 日报导,三星平泽一厂(P1)于 2017 年 6 月量产,该公司随后在 2018 年动工兴建二厂(P2)。新厂已在去年下半使用极紫外光(EUV)微影技术,量产第三代 10 奈米 LPDDR5 行动 DRAM。
今年下半,平泽二厂将启用新的晶圆代工产线和次世代 V-NAND flash 产线。三星高层透露,平泽二厂的所有产线,将一如预期在 2021 年下半投产。业界内部人士透露:"据我所知,平泽二厂从 2021 年初开始,持续提高运作率"。
三星电子 2020 年 5 月新闻稿表示,平泽厂的新晶圆代工产线,以 EUV 为基础的 5 奈米产线为主,预定 2021 年下半全面启用。新产线将协助三星扩大採用最先进的製程技术,用于 5G、高效能运算(HPC)、人工智慧(AI)等。