不受摩尔定律限制，ASML 开始设计 1 奈米製程曝光设备

根据外媒报导，日前在日本东京举行了 ITF（IMEC Technology Forum,. ITF）论坛。在论坛上，与荷兰商半导体大厂艾司摩尔（ASML）合作研发半导体曝光机的比利时半导体研究机构 IMEC 正式公布了 3 奈米及以下製程的在微缩层面的相关技术细节。根据其所公布的内容来分析，ASML 对于 3 奈米、2 奈米、1.5 奈米、1 奈米，甚至是小于 1 奈米的製程都做了清楚的发展规划，代表着 ASML 基本上已经能开发 1 奈米製程的曝光设备了。