继三星后，SK 海力士宣布 2021 下半年採 EUV 生产 1a 奈米製程 DRAM

根据国外媒体报导，荷兰曝光机生产大厂艾司摩尔（ASML）是目前全世界唯一生产极紫外光曝光设备（EUV）的厂商，用于先进半导体製程，也就是 7 奈米以下製程扮演关键性角色，包括台积电及三星都用来生产先进处理器（CPU）及绘图晶片，另外三星也用在记忆体 DRAM 製造。为了追上三星脚步，南韩另一家记忆体大厂 SK 海力士（SK Hynix）也宣布，预计自 2021 下半年开始量产採 EUV 技术的 DRAM。