EVG 推新款无光罩曝光机，满足先进封装弹性设计需求

EV Group（EVG）推出全新 LITHOSCALE 无光罩曝光（MLE）系统，这是第一个採用 EVG 无光罩曝光技术的产品。LITHOSCALE 由 EVG 开发，以满足需要高灵活性或产品变化的曝光微影需求，像是先进封装、微机电、生物医学和 IC 基板製造等。截至目前，EVG 已收到多张 LITHOSCALE 的订单，预计将于今年底陆续向客户出货。