美光进行下世代 1Y 奈米 DRAM 验证，技术上不须推进 EUV 应用

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2018 年在逻辑 IC 的生产方面，包括台积电、三星及格罗方德等都会量产 7 奈米製程。首代的 7 奈米製成将使用传统的 DUV 光刻技术，第二代 7 奈米製程才会上 EUV 光刻技术，且在 2019 年正式量产。至于，在记忆体产业部分，美光日前也表示，EUV 光刻技术并不是 DRAM 製程中所必须的，而且未来几年内都都还不一定用得上。目前，美光在新一代製程技术上，正在由客户验证 1Y 奈米製程的记忆体，而且未来还有 1Z、1α 及 1β 製程。

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