三星 EUV 技术蓄势待发，7 奈米拚下半年投产

三星周三发布新闻稿宣布，全球第一个採用极紫外光（EUV）微影设备的 7 奈米 LPP（Low Power Plus）製程，已準备好于 2018 下半年投产。

三星的目标很明确，就是成为未来先进运算与物联网晶片生产技术的领导者，并进而分食台积电的晶圆代工订单。

儘管外界看好台积电在 7 奈米製程竞赛仍居领先地位，但三星将是第一个在 7 奈米製程导入 EUV 微影技术并成功量产的晶圆代工厂，为下一世代製程反超前台积电奠定基础。三星在新闻稿同时预告 5 奈米、4 奈米与 3 奈米製程的开发计画。

调研机构 IC Insights 周二发布报告指出，三星首季半导体资本支出 67.2 亿美元，稍高于前 3 季水平，显示三星发展半导体仍紧踩油门不放。三星半导体部门过去 4 季累计资本支出高达 266 亿美元。

整体来看，IC Insights 预估全球半导体业 2018 年资本支出将成长 14%，较 3 月的预估值多出 6 个百点，且将首度超过 1 千亿美元大关。