或改变晶片製造的新技术「电子浴」，解决薄膜电子学挑战

高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）最近取得重要进展，新技术暂称为「电子浴」，有潜力改变晶片生产，并提高微电子元件製造效率和精确度。

团队使用HiPIMS，成功在绝缘基材上以相对低温生产高品质压电薄膜，业界属首次。薄膜于无线设备扮演重要角色，能确保正确接收讯号，并用于感测器、执行器及能量收集系统等。

创新处在精确控制薄膜形成时离子加速，避免不必要氩气杂质进入薄膜，对压电薄膜性能非常重要。精确时机控制，团队能在薄膜生长时只加速所需离子，提高薄膜品质。

另一个突破是能在绝缘基材上生产薄膜，对半导体业很重要，因许多生产工具无法对绝缘基材施加电压。团队称新方法为同步浮动电位HiPIMS（SFP-HiPIMS），优势在低温生产高品质压电薄膜，为晶片和电子元件生产开闢新路径。

团队之后会开发铁电薄膜，是现在与未来电子科技的关键领域。还会与其他研究机构合作，用于光子学和量子科技等，并用机器学习和高通量实验最佳化流程。

• The “Electron Shower” That’s Revolutionizing Microchip Manufacturing
• Eco-Friendly Breakthrough in Microchip Manufacturing
• Low temperature deposition of functional thin films on insulating substrates enabled by selective ion acceleration using synchronized floating potential HiPIMS

（首图来源：shutterstock）